ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ ಅನಿಲ ಸ್ಟೇನ್ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್ ನ್ಯೂಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಡಯಾಫ್ರಾಮ್ ವಾಲ್ವ್ 1/4 ಇಂಚಿನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಒತ್ತಡ
ಉತ್ಪನ್ನ ವಿವರಣೆ
ನ್ಯೂಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಡಯಾಫ್ರಾಮ್ ಕವಾಟದ ನಿರ್ದಿಷ್ಟತೆ
| ತಾಂತ್ರಿಕ ದತ್ತ | ||
| ಪೋರ್ಟ್ ಗಾತ್ರ | 1/4 | |
| ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಗುಣಾಂಕ (ಸಿವಿ) | 0.2 | |
| ಗರಿಷ್ಠ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ | ಪ್ರಮಾಣಕ | 310 ಬಾರ್ (4500 ಪಿಎಸ್ಐಜಿ) |
| ನ್ಯೂಮೀಯ | 206 ಬಾರ್ (3000 ಪಿಎಸ್ಐಜಿ) | |
| ನ್ಯೂಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಆಕ್ಯೂವೇಟರ್ನ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ | 4.2 ~ 6.2 ಬಾರ್ (60 ~ 90 ಪಿಎಸ್ಐಜಿ) | |
| ಕಾರ್ಯ ತಾಪಮಾನ | ಪಿಸಿಟಿಎಫ್‌ಇ ： -23 ~ 65 ℃ （-10 ~ 150 ℉ | |
| ಸೋರಿಕೆ ದರ (ಹೀಲಿಯಂ) | ಒಳಗೆ | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| ಬಾಹ್ಯ | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| ಹರಿವಿನ ದತ್ತ | ||
| ಏರ್ @ 21 （70 ℉） ವಾಟರ್ @ 16 ℃ （60 ℉ | ||
| ಗರಿಷ್ಠ ವಾಯು ಒತ್ತಡ ಪಟ್ಟಿಯ (ಪಿಎಸ್ಐಜಿ) ಒತ್ತಡದ ಡ್ರಾಪ್ | ಗಾಳಿ (ಎಲ್ಮಿನ್) | ನೀರು (ಎಲ್/ನಿಮಿಷ) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ
▶ ಸ್ಟ್ಯಾಂಡರ್ಡ್ (wk-ba)
ಕಂಪನಿಯ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪ್ಯಾಕೇಜಿಂಗ್ ವಿಶೇಷಣಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಎಲ್ಲಾ ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕಿದ ಕೀಲುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಆದೇಶಿಸುವಾಗ, ಪ್ರತ್ಯಯವನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ
▶ ಆಮ್ಲಜನಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ (wk-o2)
ಆಮ್ಲಜನಕದ ಪರಿಸರಕ್ಕಾಗಿ ಉತ್ಪನ್ನ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪ್ಯಾಕೇಜಿಂಗ್ ವಿಶೇಷಣಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಈ ಉತ್ಪನ್ನವು ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ
ASTMG93C ಸ್ವಚ್ l ತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು. ಆದೇಶಿಸುವಾಗ, ದಯವಿಟ್ಟು ಸೇರಿಸಿ - ಆದೇಶ ಸಂಖ್ಯೆಯ ನಂತರ O2
▶ ಅಲ್ಟ್ರಾ ಹೈ ಪ್ಯೂರಿಟಿ (wk-ep)
ನಿಯಂತ್ರಿತ ಮೇಲ್ಮೈ ಮುಕ್ತಾಯ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಪಾಲಿಶಿಂಗ್ RA0 ಹದಿಮೂರು μ m ಅನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಅಯಾನದ
ವಾಟರ್ ಅಲ್ಟ್ರಾಸಾನಿಕ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್. ಆದೇಶಿಸಲು, ಸೇರಿಸಿ - ಆದೇಶ ಸಂಖ್ಯೆಯ ನಂತರ ಇಪಿ
ಕಂಪನಿಯ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪ್ಯಾಕೇಜಿಂಗ್ ವಿಶೇಷಣಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಎಲ್ಲಾ ಬೆಸುಗೆ ಹಾಕಿದ ಕೀಲುಗಳನ್ನು ಸ್ವಚ್ ed ಗೊಳಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಆದೇಶಿಸುವಾಗ, ಪ್ರತ್ಯಯವನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿಲ್ಲ
▶ ಆಮ್ಲಜನಕ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ (wk-o2)
ಆಮ್ಲಜನಕದ ಪರಿಸರಕ್ಕಾಗಿ ಉತ್ಪನ್ನ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಪ್ಯಾಕೇಜಿಂಗ್ ವಿಶೇಷಣಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಈ ಉತ್ಪನ್ನವು ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ
ASTMG93C ಸ್ವಚ್ l ತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು. ಆದೇಶಿಸುವಾಗ, ದಯವಿಟ್ಟು ಸೇರಿಸಿ - ಆದೇಶ ಸಂಖ್ಯೆಯ ನಂತರ O2
▶ ಅಲ್ಟ್ರಾ ಹೈ ಪ್ಯೂರಿಟಿ (wk-ep)
ನಿಯಂತ್ರಿತ ಮೇಲ್ಮೈ ಮುಕ್ತಾಯ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಪಾಲಿಶಿಂಗ್ RA0 ಹದಿಮೂರು μ m ಅನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು. ಅಯಾನದ
ವಾಟರ್ ಅಲ್ಟ್ರಾಸಾನಿಕ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್. ಆದೇಶಿಸಲು, ಸೇರಿಸಿ - ಆದೇಶ ಸಂಖ್ಯೆಯ ನಂತರ ಇಪಿ
 | ಮುಖ್ಯ ರಚನಾತ್ಮಕ ವಸ್ತುಗಳು | ||
| ಸರಣಿ ಸಂಖ್ಯೆ | ಅಂಶ | ವಸ್ತುಗಳ ವಿನ್ಯಾಸ | |
| 1 | ನಿಭಾಯಿಸು | ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ | |
| 2 | ಆಕಕುತ್ಪರಿ | ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ | |
| 3 | ಕವಾಟದ ಕಾಂಡ | 304 ಎಸ್.ಎಸ್ | |
| 4 | ಕುರಿಮರಿ | ಎಸ್ 17400 | |
| 5 | ಬಾನೆಟ್ ಕಾಯಿ | 316 ಎಸ್.ಎಸ್ | |
| 6 | ಗುಂಡು | ಹಿತ್ತಾಳೆ | |
| 7 | ಡಯಾಫ್ರಾಮ್ (5) | ನಿಕಲ್ ಕೋಬಾಲ್ಟ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ | |
| 8 | ಕವಾಟದ ಆಸನ | ಪಿಸಿಟಿಎಫ್‌ಇ | |
| 9 | ಕವಾಟ | 316l SS | |
ಆಯಾಮಗಳು ಮತ್ತು ಆದೇಶವನ್ನು ಆದೇಶಿಸುವುದು
ಪ್ರಕಾರದ ಮೂಲಕ ನೇರವಾಗಿ
ಗಾತ್ರ
ಆಯಾಮಗಳು ಇಂಚುಗಳಲ್ಲಿ (ಎಂಎಂ) ಉಲ್ಲೇಖಕ್ಕಾಗಿ ಮಾತ್ರ
ಗಾತ್ರ
ಆಯಾಮಗಳು ಇಂಚುಗಳಲ್ಲಿ (ಎಂಎಂ) ಉಲ್ಲೇಖಕ್ಕಾಗಿ ಮಾತ್ರ
| ಮೂಲ ಆದೇಶ ಸಂಖ್ಯೆ | ಪೋರ್ಟ್ ಪ್ರಕಾರ ಮತ್ತು ಗಾತ್ರ | ಗಾತ್ರ. (ಎಂಎಂ) | |||
| A | B | C | L | ||
| Wv4h-6l-tw4- | 1/4 ″ ಟ್ಯೂಬ್ -ಡಬ್ಲ್ಯೂ | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 MA-MCR1/4 | 0.44 (11.2) | 0.58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳು ಒಳಗೊಂಡಿವೆ
ಟಿಎಫ್ಟಿ-ಎಲ್ಸಿಡಿ
ಟಿಎಫ್ಟಿ-ಎಲ್ಸಿಡಿ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸಿವಿಡಿ ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲಗಳು ಸಿಲೇನ್ (ಎಸ್ 1 ಹೆಚ್ 4), ಅಮೋನಿಯಾ (ಎನ್‌ಎಚ್ 3), ಫಾಸ್ಫೈನ್ (ಪಿಹೆಚ್ 3), ನೈಟ್ರಸ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ (ಎನ್ 2 ಒ), ಎನ್ಎಫ್ 3, ಇತ್ಯಾದಿ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ನೈಟ್ರೋಜನ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಬೃಹತ್ ಅನಿಲಗಳು ಸಹ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ತೊಡಗಿಸಿಕೊಂಡಿವೆ. ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಆರ್ಗಾನ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಸ್ಪಟರ್ಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಫಾರ್ಮಿಂಗ್ ಗ್ಯಾಸ್ ಚೆಲ್ಲಾಟವಾಡಲು ಮುಖ್ಯ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ. ಮೊದಲನೆಯದಾಗಿ, ಚಲನಚಿತ್ರ-ರೂಪಿಸುವ ಅನಿಲವು ಗುರಿಯೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ, ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ತವಾದ ಅನಿಲವೆಂದರೆ ಜಡ ಅನಿಲ. ಎಚ್ಚಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲವನ್ನು ಸಹ ಬಳಸಲಾಗುವುದು, ಆದರೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲವು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಸುಡುವ, ಸ್ಫೋಟಕ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ವಿಷಕಾರಿಯಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಗ್ಯಾಸ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಮತ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚು. ವೊಫೈ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಹೈ ಪ್ಯೂರಿಟಿ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲ ಪ್ರಸರಣ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಸ್ಥಾಪನೆಯಲ್ಲಿ ಪರಿಣತಿ ಹೊಂದಿದೆ.
ವಿಶೇಷ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಎಲ್ಸಿಡಿ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ಚಲನಚಿತ್ರ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಡ್ರೈ ಎಚ್ಚಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅನೇಕ ರೀತಿಯ ಎಲ್ಸಿಡಿ ಇವೆ, ಅವುಗಳಲ್ಲಿ ಟಿಎಫ್ಟಿ-ಎಲ್ಸಿಡಿ ಅದರ ವೇಗದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಸಮಯ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಇಮೇಜಿಂಗ್ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ಕ್ರಮೇಣ ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚದಿಂದಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಎಲ್ಸಿಡಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ. ಟಿಎಫ್ಟಿ-ಎಲ್ಸಿಡಿ ಫಲಕದ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಮೂರು ಹಂತಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು: ಮುಂಭಾಗದ ರಚನೆ, ಮಧ್ಯಮ ಕೋಶ ಮತ್ತು ಹಿಂಭಾಗದ ಮಾಡ್ಯೂಲ್ ಜೋಡಣೆ. ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲವನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಮುಂಭಾಗದ ರಚನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಚಲನಚಿತ್ರ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಡ್ರೈ ಎಚ್ಚಣೆ ಹಂತಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅನೇಕ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ನಂತರ, ಸಿನ್ಎಕ್ಸ್ ಮೆಟಾಲಿಕ್ ಅಲ್ಲದ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳು ಮತ್ತು ಲೋಹದ ಚಲನಚಿತ್ರಗಳಾದ ಗ್ರಿಡ್, ಸೋರ್ಸ್, ಡ್ರೈನ್ ಮತ್ತು ಐಟಿಒಗಳನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸಂಗ್ರಹಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಕ್ಯೂ 1. ಪ್ರಮುಖ ಸಮಯದ ಬಗ್ಗೆ ಏನು?
ಉ: ಮಾದರಿಗೆ 3-5 ದಿನಗಳು ಬೇಕಾಗುತ್ತವೆ, ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಸಮಯವು ಆದೇಶದ ಪ್ರಮಾಣಕ್ಕಿಂತ 1-2 ವಾರಗಳ ಅಗತ್ಯವಿದೆ
Q2. ನೀವು ಯಾವುದೇ MOQ ಮಿತಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದೀರಾ?
ಉ: ಕಡಿಮೆ MOQ 1 ಚಿತ್ರ.
Q3. ನೀವು ಸರಕುಗಳನ್ನು ಹೇಗೆ ರವಾನಿಸುತ್ತೀರಿ ಮತ್ತು ಬರಲು ಎಷ್ಟು ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ?
ಉ: ನಾವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಡಿಎಚ್‌ಎಲ್, ಯುಪಿಎಸ್, ಫೆಡ್ಎಕ್ಸ್ ಅಥವಾ ಟಿಎನ್‌ಟಿಯಿಂದ ರವಾನಿಸುತ್ತೇವೆ. ಇದು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 5-7 ದಿನಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ವಿಮಾನಯಾನ ಮತ್ತು ಸಮುದ್ರ ಸಾಗಾಟವೂ ಐಚ್ .ಿಕ.
Q4. ಆದೇಶವನ್ನು ಹೇಗೆ ಮುಂದುವರಿಸುವುದು?
ಉ: ಮೊದಲನೆಯದಾಗಿ ನಿಮ್ಮ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಅಥವಾ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅನ್ನು ನಮಗೆ ತಿಳಿಸಿ.
ಎರಡನೆಯದಾಗಿ ನಾವು ನಿಮ್ಮ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಅಥವಾ ನಮ್ಮ ಸಲಹೆಗಳಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಉಲ್ಲೇಖಿಸುತ್ತೇವೆ.
ಮೂರನೆಯದಾಗಿ ಗ್ರಾಹಕರು formal ಪಚಾರಿಕ ಕ್ರಮಕ್ಕಾಗಿ ಮಾದರಿಗಳು ಮತ್ತು ಸ್ಥಳಗಳ ಠೇವಣಿಯನ್ನು ದೃ ms ಪಡಿಸುತ್ತಾರೆ.
ನಾಲ್ಕನೆಯದಾಗಿ ನಾವು ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗೊಳಿಸುತ್ತೇವೆ.
ನಿಮ್ಮ ಸಂದೇಶವನ್ನು ಇಲ್ಲಿ ಬರೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ನಮಗೆ ಕಳುಹಿಸಿ
